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供应锗靶材99.999 锗靶价格实验室用锗靶材
锗靶概况：是一种化学元素，它的化学符号是Ge，原子序数是32。

性状：锗是一种重要的半导体材料，用于制造晶体管及各种电子装置。

物理性质：状态：固态密度（接近室温）：5.323 g·cm3 熔点时液体密度：5.60 g·cm3 熔点：1211.40 K，938.25 °C，1720.85 °F 沸点：3106 K，2833 °C，5131 °F 熔化热：36.94 kJ·mol1 汽化热：334 kJ·mol1 比热容：23.222 J·mol1·K1 原子性质（Atomic properties）：氧化态：4, 3, 2, 1, 0, -1, -2, -3, -4（两性氧化物）电负性：2.01（鲍林标度）原子半径：122 pm 原子半径（计算值）：122 pm 范德华半径：211 pm **少起订量：1片，量大优惠供货能力：同批次，同材质，持续可靠供应；100kg/月交货期：单片材料1周内发货，批量材料15天-20天内发货（工作日）制作工艺：真空磁悬浮熔炼，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工适用仪器：各类型号磁控溅射设备等产品用途：工业级镀膜，实验或研究级别用锗靶材，电子，光电，*，装饰，功能薄膜等产品优点：1、质量可靠，*惠2、真空熔炼，设备提纯，纯度高，杂质少3、.轧制致密，氧化少，成型可塑4、相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高产品附件：正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规* 包装方式：真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装运输方式：国内快递承运（顺丰，申通，EMS，德邦）常规靶材生产工艺为：铸锭（感应电溶解电子束熔炼法连续铸造）→→成型（锻造→热轧或冷轧→拉伸）→→热处理（均质化，再烧结）→→精密机械加工（切削，铣，车，磨，刨）→→与背板结合（软焊，扩散焊）→→检测（超声波，X光射线探伤）→→包装运输以下只是我们为了不同类型客户方便而定制的常规尺寸规格，我们可以为客户定制与以下形状，规格尺寸，公差要求，纯度等都不同的产品。

产品名称规格尺寸产品纯度锗粒（Ge） 1-10mm 99.999% 99.9999% 99.99999% 锗粉（Ge） 0.25um—0.5um -200目 -400目 99.999% 99.9999% 锗片（Ge） 0.5mm—3.0mm 99.999% 99.9999% 99.99999% 我们所能提供的标准包装为：100g 250g 500g 1000g 10kg 25kg 50kg 标签：北京市锗北京市锗厂家
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